描述：碳酸氫鈉研磨系統(tǒng)是一種用于將碳酸氫鈉粉末進(jìn)行細(xì)磨和處理的設(shè)備。它采用特殊的磨料和磨損部件，能夠高效地將碳酸氫鈉顆粒研磨成所需的細(xì)度。該系統(tǒng)具有穩(wěn)定的運(yùn)行和可靠的性能，適用于工業(yè)生產(chǎn)中的碳酸氫鈉加工過(guò)程。
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詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 |
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碳酸研磨應(yīng)用場(chǎng)景
一、環(huán)保行業(yè)（針對(duì)酸性氣體處理）
1、降低運(yùn)行成本
2、提高酸性氣體去除效率
3、作為應(yīng)急脫酸系統(tǒng)
二、食品、香料、制藥等行業(yè)
焚燒廠應(yīng)用
碳酸氫鈉干法脫酸在生活垃圾焚燒廠以及固體廢物焚燒廠的煙氣處理中應(yīng)用較為廣泛
脫酸工藝介紹
| 工藝 | 半干法 | 干法 | 濕法 | |
| 原料 | 水+氫氧化鈣 | 碳酸氫鈉 | 氫氧化鈣 | 水+氫氧化鈉 |
| 脫酸效率 | ≥60% | ≥95% | 50%~60% | ≥95% |
| 優(yōu)點(diǎn) | 可以起到一定降溫作用 運(yùn)行成本低 | 酸性氣體去除率高 殘留物少 | 運(yùn)行成本低 | 脫酸效率高 投加量少 |
| 缺點(diǎn) | 酸性氣體去除率一般 建設(shè)投資成本高 殘留物多 | 高目數(shù)的原料價(jià)格高 | 酸性氣體去除率一般 投加量大，殘留物多 | 廢水中TDS（溶解鹽）很高，對(duì)后續(xù)水處理影響大 |
| 應(yīng)用現(xiàn)狀 | 半干法（石灰漿）+干法（消石灰）+濕法（氫氧化鈉溶液）為主流； 依照實(shí)際煙氣量以及酸性氣體濃度，應(yīng)用工藝有差異 | |||
優(yōu)勢(shì)
1.有效降低煙氣處理成本
碳酸氫鈉顆粒度的降低,可有效提高酸性氣體的去除率
綜合碳酸氫鈉顆粒度與酸性氣體去除率對(duì)比，600（23μm）目碳酸氫鈉在煙氣處理中為合理
目前市場(chǎng)上600目碳酸氫鈉價(jià)格約為100目碳酸氫鈉的2~3倍
相對(duì)于氫氧化鈣，碳酸氫鈉用量更少，相應(yīng)的產(chǎn)生灰量更少
現(xiàn)已使用干法脫酸工藝的焚燒廠，可通過(guò)增加碳酸氫鈉研磨系統(tǒng)，降低干法脫酸的成本投入；
相對(duì)于氫氧化鈣，碳酸氫鈉用量更少，相應(yīng)的產(chǎn)生灰量更少，可降低飛灰的處理成本。
增加碳酸氫鈉研磨系統(tǒng)后，干法脫酸節(jié)約成本可在0.5~1年內(nèi)抵消研磨系統(tǒng)投入成本
2.煙氣排放提標(biāo)
碳酸氫鈉較氫氧化鈣對(duì)酸性氣體有更高的去除率
3.新增干法脫酸
針對(duì)國(guó)家發(fā)布的煙氣排放新標(biāo)準(zhǔn)，部分客戶使用原有酸性氣體處理工藝無(wú)法達(dá)標(biāo)排放的情況，可新建碳酸氫鈉研磨投加系統(tǒng)
4.備用脫酸系統(tǒng)
原有脫酸系統(tǒng)遇到設(shè)備故障、停機(jī)等情況，以及煙氣中硫化氫、二氧化硫含量上升而原有系統(tǒng)無(wú)法處理的情況，可增加碳酸氫研磨投加系統(tǒng)作為備用，保證煙氣排放達(dá)標(biāo)
研磨機(jī)同樣可以研磨氫氧化鈣等物品，使用氫氧化鈉的生產(chǎn)廠同樣可以加研磨系統(tǒng)來(lái)降低運(yùn)營(yíng)成本
文丘里噴射器
優(yōu)：電氣設(shè)備少，下料口為負(fù)壓
缺：輸送量有限，不能多點(diǎn)投加
旋轉(zhuǎn)供料器
優(yōu)：輸送量大，可串聯(lián)投加
缺：存在正壓反風(fēng)的情況，增加了電機(jī)
研磨系統(tǒng)優(yōu)勢(shì)
1、全系統(tǒng)負(fù)壓運(yùn)行，可實(shí)現(xiàn)單機(jī)多線投加
2、碳酸氫鈉研磨成品顆粒度更細(xì)，對(duì)酸性氣體去除率更高
3、研磨機(jī)性能穩(wěn)定，使用壽命長(zhǎng)，檢修維護(hù)方便
4、系統(tǒng)經(jīng)濟(jì)性高，投資少，快速回收投資成本
5、組合式快速安裝流程，售后服務(wù)完善
6、系統(tǒng)自控程序完善，可全自動(dòng)化運(yùn)行
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